FIB – Focused
Ion Beam

Le FIB – Focused Ions Beam ou Faisceau d’Ions Focalisés – est un système de gravure ultra fine de précision de l’ordre de la dizaine de nanomètre. Deux systèmes sont disponibles dont le principe de fonctionnement est relativement identique, la source d’ions étant différente : le FIB « classique », qui utilise des ions de gallium, et le Plasma-FIB, qui utilise le plasma du Xenon. Dans les deux cas, les ions percutent la surface de l’échantillon à très haute vitesse arrachant la matière dans la zone de visée. La « vitesse d’arrachement » est plus que 20 fois supérieure dans le P-FIB, ce qui permet d’obtenir des coupes de grandes dimensions. Le FIB a par contre une résolution supérieure, dans certaines conditions.
Diverses opérations peuvent être réalisées grâce à ces systèmes qui sont tout-à-fait complémentaires : création de lames TEM, dépôts diverses, modification de routage, des micro-sections. Il est possible d’effectuer des séries de micro-sections avec un pas d’environ 10-15nm permettant d’obtenir une reconstruction en 3D de la zone analysée en utilisant les informations données par la technique choisie (SE, BSE, EDS, EBSD).